PEARL 400S – Die modulare Lösung für High-End-Glasbearbeitung
Die PEARL 400S ist eine modulare Laserbearbeitungsplattform für Glaswafer, Glassubstrate für die Halbleiterindustrie und andere spröde Materialien.
Sie eignet sich ideal für Anwendungen in der Mikroelektronik, Optik, Sensorik und AR-Technologie – überall dort, wo höchste Präzision, Prozesssicherheit und Reinraumtauglichkeit gefragt sind.
Die Plattform basiert auf einem hochstabilen Granitportal und ist in verschiedenen Varianten erhältlich – jeweils optimiert für spezifische Prozessschritte wie nanoPerforation (Wafer Dicing, WD), thermische Separation (WS), Ablation oder das Mikrobohren (Wafer Ablation, WA).
- Glaswafer für MEMS und Sensorik
Bearbeitung von Glaswafern für mikroelektromechanische Systeme (MEMS), Drucksensoren, Beschleunigungssensoren und weitere Sensortechnologien.
- Mikrooptik und Wafer Level Optics (WLO)
Strukturierung und Vereinzelung von mikrooptischen Komponenten auf Wafer-Ebene, inklusive gestapelter Wafer (Stacked Wafers) für komplexe optische Systeme.
- Makro- und Mikrooptik/Molded Optics
Präzise Bearbeitung von optischen Komponenten in verschiedenen Größenordnungen, inklusive geformter (molded) Optiken für industrielle und medizintechnische Anwendungen.
- Meta-Oberflächen für AR-Anwendungen und Wearables
Strukturierung von Glas für neuartige optische Funktionen, zum Beispiel für Augmented-Reality-Brillen, Head-up-Displays und tragbare Geräte.
- Rotary und Linear Encoder
Hochpräzise Strukturierung und Vereinzelung von Glas- und Siliziumkomponenten für Positions- und Bewegungssensoren in der Automatisierungstechnik.
- Forschung & Entwicklung/Prototyping
Präzisionsbohren, Strukturieren und Dicing für F&E-Projekte, Musterfertigung und Kleinserien – flexibel anpassbar an neue Materialien und Designs.
- Vereinzelung (Dicing) von SiC und Glas
Hochpräzises Dicing von Siliziumkarbid (SiC), gehärtetem und ungehärtetem Glas – auch bei anspruchsvollen Geometrien und Beschichtungen.
- Dies mit Beschichtungen und Mikrostrukturen
Bearbeitung von Einzelchips (Dies) mit funktionalen Schichten, Mikrostrukturen oder empfindlichen Oberflächen – ohne Beschädigung.
- Farbanalysen und Filtertechnologien
Strukturierung und Dicing von Farbfiltern und optischen Schichten für Kameras, Sensoren und Displaytechnologien.
- Glas in der Halbleitertechnik
Bearbeitung von Glas als Trägermaterial oder optische Schnittstelle in modernen Halbleiteranwendungen, zum Beispiel für Co-Packaged Optics.
- Bio- und Medizintechnik
- Next Generation Sequencing (NGS): Strukturierung von Glas für DNA-Analyseplattformen.
- Lab-on-a-Chip & Mikrofluidik: Herstellung mikrofluidischer Kanäle und Strukturen auf Glas.
- DNA-Drug Discovery: Glasstrukturen für Wirkstoffforschung und Screening.
- Mikroskopie-Zubehör: Objektträger und Deckgläser – auch mit Biofilmen oder funktionalen Beschichtungen.
- Küvetten & Flow Cells: Präzise Glasbearbeitung für optische Messzellen und Durchflusskammern.
Highlights der PEARL 400S Plattform
Verschiedene Konfigurationen sind möglich
PEARL 400S WD – Laser-Dicing-System für Glaswafer
Die WD-Variante (Wafer Dicing) der PEARL 400S ist speziell für das Laser-Glasschneiden (Laser Cutting) von Glaswafern und spröden Materialien konzipiert. Sie übernimmt die erste Stufe des Trennprozesses – die nanoPerforation – und bereitet das Substrat damit präzise auf die spätere Separation vor.
Der Trennprozess in zwei Schritten:
1. nanoPerforation
ein Pikosekundenlaser erzeugt eine Reihe mikroskopisch kleiner Modifikationen im Glasvolumen entlang der gewünschten Trennkontur.
2. Separation
erfolgt in einem separaten Prozessschritt, entweder:
- thermisch mit der PEARL 400S WS, oder
- mechanisch mit der DTX200, einem hochpräzisen Brechsystem.
Ob kleine Dies oder große Optiken und Eyepieces – die WD-Ausführung deckt ein breites Anwendungsspektrum ab. Bei sehr kleinen Bauteilen (< 3 mm), empfindlichen Funktionsschichten, die durch die Wärmeeinflusszone eines CO₂-Lasers Schaden nehmen könnten, oder bei Materialien mit geringem Wärmeausdehnungskoeffizienten (z. B. Lithium-Niobat, Quarzglas) ist die mechanische Separation die bessere Wahl. In allen anderen Fällen kann die thermische Separation eingesetzt werden.
Vorteile der PEARL 400S WD
Zwei Varianten für maximale Flexibilität
Wir bieten zwei Varianten unseres patentierten nanoPerforation-Verfahrens an:
nanoPerforation (nP)
die Standardlösung für präzise, saubere Schnitte bei hoher Prozesssicherheit.
Enhanced nanoPerforation (EnP)
mit noch höherer Kantenfestigkeit, reduzierten Ausbrüchen (Chipping) und größerer geometrischer Flexibilität – ideal für komplexe Schnittmuster und industrielle Hochdurchsatzanwendungen.
Ausführliche Informationen zur Technologie und den Anwendungsfeldern finden Sie auf unserer Anwendungsseite zum Laser-Glasschneiden.
PEARL 400S WA – Laserablation & Mikrobearbeitung für Glas und spröde Materialien
Die PEARL 400S WA (Wafer Ablation) ist die Variante der PEARL-Plattform, die speziell für Laserablation, Mikrobohrungen und Oberflächenstrukturierung entwickelt wurde. Sie nutzt hochpräzise Laserprozesse zur Bearbeitung von Glas, Siliziuzmkarbid (SiC) und beschichteten Substraten – kontaktlos, spannungsfrei und mit minimaler Wärmeeinflusszone.
Dank der Auswahl zwischen Nano-, Piko- und Femtosekundenlasern bietet die WA-Variante maximale Flexibilität für unterschiedlichste Anforderungen – von robusten Bohrungen bis hin zu feinsten Mikrostrukturen.
Typische Anwendungen:
Präzise Mikrobohrungen mit minimalem Chipping und hoher Kantenqualität.
Für Meta-Oberflächen, optische Komponenten und mikrofluidische Systeme.
Um Beispiel zur Funktionalisierung oder Vorbereitung weiterer Prozessschritte.
Auch unter 100 µm, ohne mechanische Belastung.
Ausführliche Informationen zur Glasbearbeitung durch Bohren und Strukturieren finden Sie auf unserer Anwendungsseite zum Laser Drilling.
Vorteile der PEARL 400S WA:
Gemeinsame technische Daten (WD & WA)
| Kategorie | Merkmal | Spezifikation |
|---|---|---|
| Systemgröße & Gewicht | Abmessungen (B×T×H) Mit Wafer-Handler | 1400 mm × 1400 mm × 2380 mm 2600 mm × 1865 mm × 2380 mm |
| Gewicht Gewicht mit Handler | ~2.600 kg ~3.400 kg | |
| Achsen & Bewegung | Bearbeitungsbereich | 400 × 400 mm 600 × 600 mm |
| Vorschubgeschwindigkeit | bis 1000 mm/s | |
| Beschleunigung | bis 10 m/s² | |
| Positioniergenauigkeit* | < 2,5 µm + 7,5 × 10⁻⁵ × L | |
| Wiederholgenauigkeit | ≤ 2 µm | |
| Pattern Placement Accuracy | 10 µm | |
| Software & Bedienung | HMI | Touchscreen-basierte Bedienoberfläche |
| CAD-Postprozessor | DXF-Import, einfache Job-Konfiguration | |
| cVision | Erkennung von Fiducials und Glaskanten | |
| MES SECS/GEM (optional) | Fertigungsintegration | |
| Automatisierung | Wafer Handler | Wafer Handler |
| Wafer ID Reader | Automatisches Auslesen der Wafer-ID |
Optionen im Vergleich
- Enhanced nanoPerforation
- Höhen Sensor
- 2D-Coder-Reader
- Wafer-ID-Reader
- Beam Profiler
- Deionisierer
- Luftbefeuchter
- Erdbebensicherung
- Transformator
- Systemkühler
- Fernzugriff
- Höhen Sensor
- 2D-Coder-Reader
- Wafer-ID-Reader
- Beam Profiler
- Deionisierer
- Erdbebensicherung
- Transformator
- Systemkühler
- Fernzugriff